XuM: SEM における X 線顕微鏡法

表面下の画像を表示し、SEM を使用した顕微鏡に新たな次元を提供します。

• 内部構造の観察
• 高分解能
• 位相と吸収のコントラスト
• 3D マイクロトモグラフィー

 

SEM での 二次電子像	XuM での 2D X 線像	XuM での 2D X 線像	3D XuM 再構成

XuM、X 線限外顕微鏡

XuM は、切断せずに試料の内部構造を観察できる、SEM による高分解能 X 線顕微鏡です。2D、ステレオおよびフル 3D 断層画像を提供することにより、XuM はスキャニング電子顕微鏡に 3D を追加します。

• 内部構造の観察: XuM を使用することで、科学者またはエンジニアは、破壊的な切断や複雑な試料作製を行うことなく、試料の内部を迅速かつ簡単に調査できます。これは、特に、試料が高価である場合（そのため破壊的な試料作製に適していない場合）、切断または侵入準備により構造が損傷される場合、または準備プロセスが困難であったり、コストや時間がかかる場合に重要です。
• SEM の使用: XuM は、SEM による X 線顕微鏡です。点状の X 線源は、電子ビームを適切な目標に当てることで形成されます。その結果の X 線は、試料を流れ、高分解能・高感度カメラに投射され、画像を形成します。XuM イメージングに使用されない場合、ターゲットモジュールはその通常のイメージング設定で SEM を使用できるように後退します。
• 高分解能: ターゲット技術は、XuM の性能の中心となります。さまざまな形状や組成の高感度ターゲットは、アプリケーションのイメージングニーズに応じて選択されます。SEM ホストに応じて、250 nm 以下の XuM 画像分解能を実現できます。
• 3D マイクロトモグラフィー: 試料の 3D 立体モデルは、X 線マイクロトモグラフィー再構成アルゴリズムを使用して、回転データセットから再生成できます。これにより、試料を物理的に切断することなく、仮想スライシングにより内部構造の配置を分析できます。
• X 線位相と吸収のコントラスト: XuM を使用して生成される X 線画像には、幅広い試料材質でのファインエッジ構造を測定し、優れたエッジ解像力を保持する、吸収と位相の両方のコントラストが含まれます。位相コントラストは、X 線の波動特性を利用する現象です。位相コントラストは、X 線が試料に接するときの X 線の屈折（吸収ではありません）により生じ、鋭角、境界、割れ目で最も強くなります。位相コントラストは、密度の変化が非常に少ないため、吸収コントラストには不適切な試料で発生できます。これにより、ポリマー、低密度合成物、生物試料などの試料の微細な画像を XuM を使用して生成できます。

XuM データシートをダウンロードするには、ここをクリックしてください。

『Microscopy Today』（2008 年 11 月）に公開された XuM アプリケーションに関する記事をダウンロードするには、ここをクリックしてください。

XuM の詳細については、お近くの Gatan 販売オフィスにお問い合わせください。